Wenn Chiphersteller ihre modernsten Prozessoren belichten, steckt darin ein Stück schwäbischer Lasertechnik: Trumpf aus Ditzingen bei Stuttgart liefert den CO₂-Laser, mit dem in den Anlagen von ASML für die Extrem-Ultraviolett-Lithografie (EUV) das Licht entsteht. Wie wichtig dieses Geschäft für den Maschinenbauer geworden ist, zeigt schon der Titel des Geschäftsberichts 2025/26, den Trumpf am 15. Oktober 2026 vorgelegt hat: „semicon“. Das Geschäftsfeld EUV wuchs im Geschäftsjahr bis Ende Juni um 9,2 Prozent auf 791 Millionen Euro – gut 18 Prozent des Konzernumsatzes von 4,34 Milliarden Euro. Am 6. November meldete die Deutsche Presse-Agentur zudem unter Berufung auf das Handelsblatt, Trumpf wolle die Produktionskapazität seiner Chipsparte binnen zwei Jahren verdoppeln und am Stammsitz mehr als 200 Stellen schaffen.

Vom Zinntropfen zum EUV-Blitz

EUV-Licht hat eine Wellenlänge von 13,5 Nanometern und ist damit nach ASML-Angaben mehr als 14-mal kurzwelliger als das Licht der älteren DUV-Belichter. Eine Lampe oder ein gewöhnlicher Laser liefert solches Licht nicht. Trumpf veranschaulicht den Aufwand so: Ohne Laser bräuchte man für EUV-Licht einen fußballfeldgroßen Teilchenbeschleuniger. ASML, Zeiss und Trumpf haben deshalb ein Verfahren entwickelt, bei dem ein Laser ein leuchtendes Plasma erzeugt.

Das Verfahren heißt Laser-Produced Plasma. Ein Tröpfchengenerator schießt in einer Vakuumkammer geschmolzene Zinntropfen von etwa 25 Mikrometern Durchmesser mit rund 70 Metern pro Sekunde durch den Brennpunkt – 50.000 Stück pro Sekunde. Jeder Tropfen wird zweimal getroffen. Ein schwächerer Vorpuls (Pre-Pulse) drückt ihn zu einer flachen Scheibe auseinander und vergrößert so seine Fläche. Der folgende Hauptpuls (Main-Pulse) trifft das aufgeweitete Zinn mit voller Leistung, es verdampft und bildet ein Plasma, das EUV-Strahlung abgibt. Der Umweg ist nötig, weil der Tropfen kleiner ist als der Laserstrahl; ohne Vorpuls käme ein Teil der Laserleistung gar nicht am Zinn an. Ein Kollektorspiegel fängt das in alle Richtungen abgestrahlte EUV-Licht ein, bündelt es und gibt es an das Belichtungssystem weiter. Die Arbeitsteilung beschreibt Trumpf so: ASML integriert die Anlage und liefert Tröpfchenerzeugung und Scanner, die EUV-Optik kommt von Zeiss, der Laser aus Ditzingen.

Laser Amplifier: fünf Stufen, mehr als 10.000-fache Verstärkung

Trumpfs Beitrag heißt Laser Amplifier. Das gepulste CO₂-Lasersystem basiert auf der Technik der CO₂-Dauerstrichlaser des Unternehmens mit mehr als zehn Kilowatt Leistung. Am Anfang stehen im High Power Seed Module zwei Seedlaser, die Pulse von wenigen Watt erzeugen; ein erster Verstärker hebt das Licht auf etwa 100 Watt. Danach folgt die High Power Amplification Chain aus vier Resonatoren, jeder auf seine Verstärkungsstufe abgestimmt – mit eigenem Gebläse, Hochfrequenzanregung und Gasmischung. Drei getrennte Kühlkreisläufe halten das System stabil, Messtechnik vermisst den Strahl laufend.

Insgesamt verstärkt die Anlage einen Puls in fünf Stufen um mehr als das 10.000-Fache auf mehrere zehn Kilowatt mittlere Leistung; Trumpf nennt je nach Darstellung über 30 oder 40 Kilowatt. Weil die Pulse sehr kurz sind, liegt die Spitzenleistung im Megawattbereich. Ein Strahltransportsystem aus Periskop und speziell beschichteten Spiegeln führt den Strahl bis zu 30 Meter weit zur Tröpfchenkammer. Erst kurz davor teilt eine Optikplattform ihn in Vor- und Hauptpuls auf, eine Fokussiereinheit richtet ihn auf den Tropfen.

Aus mehreren zehn Kilowatt Laserleistung muss die Quelle laut Trumpf einige hundert Watt EUV-Licht gewinnen. ASML will deutlich mehr: Nach einem Bericht von Reuters erklärte der Konzern im Februar 2026, aktuelle Produktionsanlagen arbeiteten mit 600 Watt, eine Testquelle habe unter realistischen Bedingungen 1000 Watt erreicht. Wichtigster Hebel sei die Verdopplung auf rund 100.000 Zinntropfen pro Sekunde. Bis 2030 soll das den Durchsatz von etwa 220 auf rund 330 Wafer pro Stunde steigern. Welche Änderungen das am Laser erfordert, geht aus den Berichten nicht hervor.

Hochhaus der ASML-Konzernzentrale in Veldhoven in den Niederlanden

Bild: Konzernzentrale von ASML in Veldhoven. Der niederländische Hersteller baut Trumpfs Laser in seine EUV-Anlagen ein (Aufnahme von 2008) – A ansems / Wikimedia Commons, gemeinfrei

High-NA: feinere Strukturen, Trumpf bleibt an Bord

Die nächste Gerätegeneration heißt High-NA EUV. ASML erhöht dabei die numerische Apertur der Optik von 0,33 auf 0,55 und senkt so die Auflösung von 13 auf 8 Nanometer. Das erste System dieser Art, die EXE:5000, hat ASML im Dezember 2023 ausgeliefert; die EXE:5200B ist für die Serienfertigung von Logikchips unterhalb der 2-Nanometer-Klasse und von DRAM gedacht.

Trumpf-Technikvorstand Berthold Schmidt sagte im Juli 2026 der taiwanischen Zeitung United Daily News, High-NA werde spätestens in drei Jahren zum Standard. Der Engpass liege weniger in den Anlagen als in Chipdesign, Fertigungsabläufen und Lieferketten, die noch auf die bisherige EUV-Technik ausgerichtet seien. Low-NA und High-NA würden noch lange nebeneinander bestehen. Laut demselben Bericht arbeitet Trumpf mit ASML daran, Ausgangsleistung und Effizienz der High-NA-Lichtquelle zu steigern.

Was das Chipgeschäft für Trumpf bedeutet

Für Trumpf ist die Halbleitertechnik inzwischen ein wichtiger Wachstumstreiber in einem schwierigen Umfeld. Im Geschäftsjahr 2025/26 stagnierte der Konzernumsatz bei 4,34 Milliarden Euro, der Auftragseingang stieg um 6,6 Prozent auf 4,5 Milliarden Euro, das operative Ergebnis (EBIT) erholte sich von 59 auf 480 Millionen Euro. Die Werkzeugmaschinen blieben mit 2,38 Milliarden Euro der größte Bereich, die Lasertechnik verlor dagegen Umsatz. Am stärksten wuchs das EUV-Geschäft, das Geschäftsfeld Elektronik legte um 3,6 Prozent auf 458 Millionen Euro zu. Dazu zählen Plasmageneratoren, die in Chipfabriken die Plasmaprozesse zum Beschichten, Ätzen und Dotieren der Wafer mit Energie versorgen. Trumpf selbst nennt die weltweite Nachfrage nach Halbleitern und Rechenzentren als Treiber; Vorstandschefin Nicola Leibinger-Kammüller erwartet für das laufende Geschäftsjahr weiteres Wachstum.

Nach dem Handelsblatt-Bericht ist die Chipsparte bei Auftragseingang und Umsatzprognose derzeit führend im Konzern; Schmidt kündigte demnach auch neue Generatoren an, mit denen sich Schichten von Atomdicke bearbeiten lassen. Im EUV-Geschäft hängt Trumpf an ASML, und dort ist die Nachfrage hoch: Der niederländische Konzern meldete im dritten Quartal 2026 einen Rekordumsatz von 11,7 Milliarden Euro und erwartet, dass seine bislang geplanten Kapazitäten für 2027 und 2028 nicht ausreichen werden, um die Nachfrage voll zu decken.

Die Kehrseite: Das EUV-Geschäft ist auf einen Abnehmer zugeschnitten, Trumpf selbst beschreibt das Geschäftsfeld als Ausrüstung von ASML mit Hochleistungslasern. Beim Ausbau setzt der Laserbauer laut United Daily News auf einen Ausbau nach Bedarf statt auf feste Vorratskapazitäten; steige die Nachfrage weiter, könne man neue Linien und Werke bauen.

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